真空镀膜机主要指一类需要专门在较高真空度下进行镀膜的高精密设备，其中镀膜工艺具体包括真空电阻加热蒸发、电子枪加热蒸发、磁控溅射、MBE分子束外延、PLD激光溅射沉积、离子束溅射等多种，但主要还是分为 蒸发沉积镀膜 和 溅射沉积镀膜 两种。
需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。
蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点-岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。
对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。
我司自主研发的系列镀膜机适用于在玻璃、树脂、陶瓷、金属等各类材质表面镀制AR膜、硬质膜、滤光膜、高反膜等各类薄膜，具有高生产效率、高稳定性、高重复性的特点，适合大批量连续作业的需求。
负责产品研发及生产的总工程师，来自日本顶级镀膜设备制造企业，拥有多年各类全自动光学真空镀膜设备的开发及制造经验。全系列产品在南阳工厂完成整体生产及出厂调试，与国外同类产品相比，具有贴近用户需求、性价比高、售后服务及时等明显优势。
